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高频溅射法氮碳膜的生长及结构

余庆选 方容川

无机材料学报1997，Vol.12Issue(4)：P.541-544,4.
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无机材料学报1997，Vol.12Issue(4)：P.541-544,4.

高频溅射法氮碳膜的生长及结构

余庆选 1方容川1

作者信息

  • 1. 中国科学技术大学物理系,合肥230026
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摘要

关键词

高频溅射/氮化碳薄膜/结构/薄膜生长

分类

化学化工

引用本文复制引用

余庆选,方容川..高频溅射法氮碳膜的生长及结构[J].无机材料学报,1997,12(4):P.541-544,4.

基金项目

国家自然科学基金!19504010 （）

无机材料学报

OA北大核心CSCD

1000-324X

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