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反应磁控溅射沉积ITO膜的X射线衍射结构分析

茅昕辉 陈国平

电子器件1996,Vol.19Issue(2):P.77-84,8.
电子器件1996,Vol.19Issue(2):P.77-84,8.

反应磁控溅射沉积ITO膜的X射线衍射结构分析

茅昕辉 1陈国平1

作者信息

  • 1. 东南大学薄膜研究所
  • 折叠

摘要

关键词

氧化铟锡/ITO膜/反应磁控测射/X射线/衍射

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

茅昕辉,陈国平..反应磁控溅射沉积ITO膜的X射线衍射结构分析[J].电子器件,1996,19(2):P.77-84,8.

电子器件

1005-9490

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