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反应蒸发制备的TiN薄膜特性研究

高玉芝 张录 张利春

北京大学学报：自然科学版1989，Vol.25Issue(3)：P.261-268,8.
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北京大学学报：自然科学版1989，Vol.25Issue(3)：P.261-268,8.DOI:10.13209/j.0479-8023.1989.035

反应蒸发制备的TiN薄膜特性研究

高玉芝 1张录 1张利春1

作者信息

  • 1. 北京大学微电子学研究所
  • 折叠

摘要

关键词

反应蒸发/氮化钛/薄膜/扩散势垒

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

高玉芝,张录,张利春..反应蒸发制备的TiN薄膜特性研究[J].北京大学学报：自然科学版,1989,25(3):P.261-268,8.

基金项目

国家自然科学基金 （）

北京大学学报：自然科学版

OACSCD

0479-8023

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