物理化学学报1997，Vol.13Issue(2)：P.164-168,5.
NiPd/Si界面常温扩散及硅化物形成的XPS证据
张国庆 1刘冰 1姚素薇 1郭鹤桐 1何菲 2龚正烈3
作者信息
- 1. 天津大学应用化学系,天津300072
- 2. 天津大学一碳化工国家重点实验室,天津300072
- 3. 天津理工学院物理系,天津300191
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摘要
关键词
XPS/扩散/金属硅化物/NiPD合金/界面/半导体分类
化学化工引用本文复制引用
张国庆,刘冰,姚素薇,郭鹤桐,何菲,龚正烈..NiPd/Si界面常温扩散及硅化物形成的XPS证据[J].物理化学学报,1997,13(2):P.164-168,5.
