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人工金刚石薄膜生长过程中有关反应活性的研究

潘必才 夏上达 方容川

物理学报1995,Vol.44Issue(5):P.763-771,9.
物理学报1995,Vol.44Issue(5):P.763-771,9.

人工金刚石薄膜生长过程中有关反应活性的研究

潘必才 1夏上达 1方容川1

作者信息

  • 1. 中国科学技术大学物理系,合肥230026
  • 折叠

摘要

关键词

金刚石/人工金刚石/薄膜/薄膜生长/反应活性

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

潘必才,夏上达,方容川..人工金刚石薄膜生长过程中有关反应活性的研究[J].物理学报,1995,44(5):P.763-771,9.

基金项目

国家高技术研究发展计划 ()

国家自然科学基金资助的课题 ()

物理学报

OA北大核心CSCD

1000-3290

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