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PLT薄膜的磁控溅射淀积及其性能

罗维根 丁爱丽 张瑞涛 黄敏虹 葛敏

无机材料学报1992，Vol.7Issue(2)：P.176-182,7.
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无机材料学报1992，Vol.7Issue(2)：P.176-182,7.

PLT薄膜的磁控溅射淀积及其性能

罗维根 1丁爱丽 1张瑞涛 1黄敏虹 1葛敏1

作者信息

  • 1. 中国科学院上海硅酸盐研究所
  • 折叠

摘要

关键词

半导体/铁电薄膜/磁控溅射

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

罗维根,丁爱丽,张瑞涛,黄敏虹,葛敏..PLT薄膜的磁控溅射淀积及其性能[J].无机材料学报,1992,7(2):P.176-182,7.

无机材料学报

OA北大核心CSCD

1000-324X

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