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B离子注入n(Si)-GaAs层的特性研究

刘伊犁 罗晏 李国辉 姬成周

北京师范大学学报:自然科学版1992,Vol.28Issue(4):P.472-477,6.
北京师范大学学报:自然科学版1992,Vol.28Issue(4):P.472-477,6.

B离子注入n(Si)-GaAs层的特性研究

刘伊犁 1罗晏 1李国辉 1姬成周1

作者信息

  • 1. 北京师范大学低能核物理研究所,北京新外大街100875
  • 折叠

摘要

关键词

离子注入/砷化镓/硼离子

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

刘伊犁,罗晏,李国辉,姬成周..B离子注入n(Si)-GaAs层的特性研究[J].北京师范大学学报:自然科学版,1992,28(4):P.472-477,6.

基金项目

国家自然科学基金 ()

中国科学院半导体研究所材料开放实验室资助项目 ()

北京师范大学学报:自然科学版

OACSCD

0476-0301

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