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Ti膜磁控溅射及光吸收特性研究

陈善宝 林更琪 方罗珍 吴爱清

光通信研究Issue(1)：P.46-49,4.
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光通信研究Issue(1)：P.46-49,4.

Ti膜磁控溅射及光吸收特性研究

陈善宝 1林更琪 1方罗珍 2吴爱清2

作者信息

  • 1. 华中理工大学,430074
  • 2. 邮电部固体器件研究所,430074
  • 折叠

摘要

关键词

磁控溅射/金属吸收膜/光吸收/钛/半导体薄膜技术

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

陈善宝,林更琪,方罗珍,吴爱清..Ti膜磁控溅射及光吸收特性研究[J].光通信研究,1998,(1):P.46-49,4.

光通信研究

OA北大核心CSCD

1005-8788

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