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用全反射X荧光技术分析釉药粉末

刘恺邬旭然郑素华田宇纮

分析化学1998，Vol.26Issue(3)：P.370-370,1.

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分析化学1998，Vol.26Issue(3)：P.370-370,1.

用全反射X荧光技术分析釉药粉末

刘恺 ¹邬旭然 ¹郑素华 ¹田宇纮¹

作者信息

1. 烟台大学物理系,烟台264005
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摘要

关键词

全反射X荧光/釉药/分析/釉料/TXPF

分类

化学化工

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刘恺,邬旭然,郑素华,田宇纮..用全反射X荧光技术分析釉药粉末[J].分析化学,1998,26(3):P.370-370,1.

分析化学

OA北大核心CSCD

ISSN：0253-3820

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