中性介质中铜缓蚀剂的成膜过程OA北大核心CSCD
使用光电化学与电化学石英晶体微天平联用（PECQCM）技术对中性介质铜缓蚀剂成膜过程进行了现场研究．结果表明，在中性Na2SO4溶液中钝化型缓蚀剂Na2OrO4对Cu成膜生长有抛物线规律，而由于Cl-的影响，在中性NaCl溶液中，该缓蚀剂膜生长曲线为折线型．沉淀型缓蚀剂Na2SiO3在Na2SO4溶液中的铜晶振电极上不成膜，而在NaCl溶液中可成膜．
甘复兴;戴忠旭;汪的华;姚禄安
武汉大学环境科学系,武汉430072武汉大学环境科学系,武汉430072武汉大学环境科学系,武汉430072武汉大学环境科学系,武汉430072
金属材料
缓蚀剂成膜过程铜电极铜缓蚀剂PECQCM
《应用化学》 1998 (4)
P.45-48,4
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