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同多钼酸-聚吡咯薄膜修饰电极的制备及其电化学性能

宋发益 董绍俊

分析化学1992，Vol.20Issue(10)：P.1140-1143,4.
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分析化学1992，Vol.20Issue(10)：P.1140-1143,4.

同多钼酸-聚吡咯薄膜修饰电极的制备及其电化学性能

宋发益 1董绍俊1

作者信息

  • 1. 中国科学院长春应用化学研究所
  • 折叠

摘要

关键词

同多钼酸/聚吡咯/化学修饰电极

分类

化学化工

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宋发益,董绍俊..同多钼酸-聚吡咯薄膜修饰电极的制备及其电化学性能[J].分析化学,1992,20(10):P.1140-1143,4.

分析化学

OA北大核心CSCD

0253-3820

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