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p—Si上电沉积Ni—W—P薄膜的结构与热稳定性

李爱昌 张国庆

应用化学1998，Vol.15Issue(3)：35-38,4.
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应用化学1998，Vol.15Issue(3)：35-38,4.

p—Si上电沉积Ni—W—P薄膜的结构与热稳定性

李爱昌 1张国庆1

作者信息

  • 1. 廊坊师范专科学校化学系
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摘要

关键词

电沉积/薄膜/结构/热稳定性/单晶硅/镍钨磷合金

分类

化学化工

引用本文复制引用

李爱昌,张国庆..p—Si上电沉积Ni—W—P薄膜的结构与热稳定性[J].应用化学,1998,15(3):35-38,4.

应用化学

OA北大核心CSCD

1000-0518

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