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偏压对多弧离子镀TiN膜层的影响

辛煜 薛青

表面技术1997，Vol.26Issue(1)：8-10,3.
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表面技术1997，Vol.26Issue(1)：8-10,3.

偏压对多弧离子镀TiN膜层的影响

辛煜 1薛青2

作者信息

  • 1. 苏州大学薄膜材料实验室
  • 2. 苏州大学测试中心
  • 折叠

摘要

关键词

多弧离子镀/喷镀/氮化钛/离子镀/镀膜/偏压

分类

矿业与冶金

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辛煜,薛青..偏压对多弧离子镀TiN膜层的影响[J].表面技术,1997,26(1):8-10,3.

表面技术

1001-3660

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