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PIXE应用于分析Si基片热扩Ni的深度分析

张大忠

原子与分子物理学报1992，Vol.9Issue(1)：2183-2191,9.

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原子与分子物理学报1992，Vol.9Issue(1)：2183-2191,9.

PIXE应用于分析Si基片热扩Ni的深度分析

张大忠¹

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摘要

关键词

深度/PIXE/入射粒子/硅片

分类

信息技术与安全科学

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张大忠..PIXE应用于分析Si基片热扩Ni的深度分析[J].原子与分子物理学报,1992,9(1):2183-2191,9.

原子与分子物理学报

OA北大核心CSCD

ISSN：1000-0364

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