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用于场发射阴极的磁控溅射金刚石薄膜的研究

庄大明 陈国平

电子器件1996，Vol.19Issue(4)：P.277-282,6.
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电子器件1996，Vol.19Issue(4)：P.277-282,6.

用于场发射阴极的磁控溅射金刚石薄膜的研究

庄大明 1陈国平1

作者信息

  • 1. 东南大学电子工程系
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摘要

关键词

金刚石薄膜/磁控溅射/场发射显示器件

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

庄大明,陈国平..用于场发射阴极的磁控溅射金刚石薄膜的研究[J].电子器件,1996,19(4):P.277-282,6.

电子器件

1005-9490

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