综述了亚微米、深亚微米干法刻蚀和相关技术的最新进展及其在超大规模集成电路制造中的应用。
作者：刘云峰;陈国平
作者单位：东南大学电子工程系东南大学电子工程系
分类：信息技术与安全科学
中文关键词：干法刻蚀微细加工VLSI
刊名：《电子器件》 1998 (2)
页码/页数：102-108,7
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