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基片负偏压对PEMSIP法TiN涂层的影响

王玉魁 张兴龙 韩会民 高路斯 王传恩

大连理工大学学报1995，Vol.35Issue(3)：P.339-343,5.
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大连理工大学学报1995，Vol.35Issue(3)：P.339-343,5.

基片负偏压对PEMSIP法TiN涂层的影响

王玉魁 1张兴龙 1韩会民 1高路斯 1王传恩1

作者信息

  • 1. 大连理工大学材料工程系
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摘要

关键词

等离子体/氮化钛/磁控溅射/涂层/离子镀

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

王玉魁,张兴龙,韩会民,高路斯,王传恩..基片负偏压对PEMSIP法TiN涂层的影响[J].大连理工大学学报,1995,35(3):P.339-343,5.

基金项目

三束材料改性国家重点实验室资助项目 （）

大连理工大学学报

OA北大核心CSCD

1000-8608

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