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薄膜晶体管a－Si：H／a－SiN_x界面研究

胡宇飞孙剑钟伯强黄慈祥潘惠英

无机材料学报1996，Vol.11Issue(1)：P.183-187,5.

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无机材料学报1996，Vol.11Issue(1)：P.183-187,5.

薄膜晶体管a－Si：H／a－SiN_x界面研究

胡宇飞 ¹孙剑 ¹钟伯强 ¹黄慈祥 ¹潘惠英¹

作者信息

1. 中国科学院上海硅酸盐研究所
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摘要

关键词

界面/薄膜晶体管/非晶硅/氮化硅

分类

信息技术与安全科学

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胡宇飞,孙剑,钟伯强,黄慈祥,潘惠英..薄膜晶体管a－Si：H／a－SiN_x界面研究[J].无机材料学报,1996,11(1):P.183-187,5.

无机材料学报

OA北大核心CSCD

ISSN：1000-324X

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