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高技术通讯
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自聚焦平面微透镜阵列的制作及其基本特性
自聚焦平面微透镜阵列的制作及其基本特性
刘德森
高应俊
朱传贵
宋光年
高凤
姚胜利
闫国安
高技术通讯
1996，Vol.6
Issue(4)：P.35-39,5.
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高技术通讯
1996，Vol.6
Issue(4)
：P.35-39,5.
自聚焦平面微透镜阵列的制作及其基本特性
刘德森
1
高应俊
1
朱传贵
1
宋光年
1
高凤
1
姚胜利
1
闫国安
1
作者信息
1.
中国科学院西安光机所
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摘要
关键词
自聚焦
/
平面微透镜阵列
/
制造
/
光学仪器
分类
机械制造
引用本文
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刘德森,高应俊,朱传贵,宋光年,高凤,姚胜利,闫国安..自聚焦平面微透镜阵列的制作及其基本特性[J].高技术通讯,1996,6(4):P.35-39,5.
基金项目
863计划资助 （）
高技术通讯
OA
CSCD
ISSN：
1002-0470
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