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PLZT（7．5／65／35）薄膜制备与铁电性能研究

黄龙波 李佐宜 卢德新 刘建设

华中理工大学学报1995，Vol.23Issue(3)：P.52-56,5.
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华中理工大学学报1995，Vol.23Issue(3)：P.52-56,5.

PLZT（7．5／65／35）薄膜制备与铁电性能研究

黄龙波 1李佐宜 1卢德新 1刘建设1

作者信息

  • 1. 华中理工大学固体电子学系
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摘要

关键词

射频磁控溅射/薄膜/铁电性能/显微结构

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

黄龙波,李佐宜,卢德新,刘建设..PLZT（7．5／65／35）薄膜制备与铁电性能研究[J].华中理工大学学报,1995,23(3):P.52-56,5.

基金项目

国家高技术863计划资助项目 （）

华中理工大学学报

OA北大核心

1000-8616

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