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由21—40keV电子轰击钼引起的k壳层电离截面的测量

彭秀峰 何福庆

四川大学学报：自然科学版1997，Vol.34Issue(6)：758-761,4.
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四川大学学报：自然科学版1997，Vol.34Issue(6)：758-761,4.

由21—40keV电子轰击钼引起的k壳层电离截面的测量

彭秀峰 1何福庆1

作者信息

  • 1. 四川大学原子核科学技术研究
  • 折叠

摘要

关键词

k壳层/电离截面/电子轰击/钼原子/测量

分类

数理科学

引用本文复制引用

彭秀峰,何福庆..由21—40keV电子轰击钼引起的k壳层电离截面的测量[J].四川大学学报：自然科学版,1997,34(6):758-761,4.

四川大学学报：自然科学版

OA北大核心CSCD

0490-6756

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