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用反应离子刻蚀技术制作Ge菲涅尔微透镜列阵

税必继 杜春雷

四川大学学报：自然科学版1998，Vol.35Issue(1)：43-46,4.
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四川大学学报：自然科学版1998，Vol.35Issue(1)：43-46,4.

用反应离子刻蚀技术制作Ge菲涅尔微透镜列阵

税必继 1杜春雷2

作者信息

  • 1. 四川大学物理系
  • 2. 中国科学院光电技术研究所
  • 折叠

摘要

关键词

反应离子刻蚀/微透镜透列阵/锗

分类

机械制造

引用本文复制引用

税必继,杜春雷..用反应离子刻蚀技术制作Ge菲涅尔微透镜列阵[J].四川大学学报：自然科学版,1998,35(1):43-46,4.

四川大学学报：自然科学版

OA北大核心CSCD

0490-6756

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