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ULSI铜互连线CMP抛光液的研制

王新 刘玉岭

半导体学报2002,Vol.23Issue(9):1006-1008,3.
半导体学报2002,Vol.23Issue(9):1006-1008,3.

ULSI铜互连线CMP抛光液的研制

CMP Slurry of Copper Interconnection for ULSI

王新 1刘玉岭1

作者信息

  • 1. 河北工业大学微电子所,天津,300130
  • 折叠

摘要

关键词

铜互连线/化学机械抛光/抛光液

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

王新,刘玉岭..ULSI铜互连线CMP抛光液的研制[J].半导体学报,2002,23(9):1006-1008,3.

基金项目

国家自然科学基金(批准号:60176033)和河北省自然科学基金(项目编号:502029)资助项目 (批准号:60176033)

半导体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1674-4926

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