| 注册
首页|期刊导航|物理学报|Delta掺杂制备p-GaN薄膜及其电性能研究

Delta掺杂制备p-GaN薄膜及其电性能研究

李彤 沈光地 王怀兵 刘建平 牛南辉 张念国 邢艳辉 韩军 刘莹 高国

物理学报2007,Vol.56Issue(2):1036-1040,5.
物理学报2007,Vol.56Issue(2):1036-1040,5.

Delta掺杂制备p-GaN薄膜及其电性能研究

Studies on electrical properties of delta-doping p-GaN films

李彤 1沈光地 1王怀兵 1刘建平 1牛南辉 1张念国 1邢艳辉 1韩军 1刘莹 1高国1

作者信息

  • 1. 北京工业大学北京市光电子技术实验室,北京,100022
  • 折叠

摘要

关键词

氮化镓/LEDs/MOCVD/Delta掺杂

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

李彤,沈光地,王怀兵,刘建平,牛南辉,张念国,邢艳辉,韩军,刘莹,高国..Delta掺杂制备p-GaN薄膜及其电性能研究[J].物理学报,2007,56(2):1036-1040,5.

基金项目

家自然科学基金(批准号:60506012)和北京市教委重点项目(批准号:KZ200510005003)资助的课题. (批准号:60506012)

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-3290

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文