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高光敏性酞菁氧钛及光电器件制备工艺研究

卞曙光 余银霞 陈建峰

高技术通讯2006,Vol.16Issue(10):1047-1050,4.
高技术通讯2006,Vol.16Issue(10):1047-1050,4.

高光敏性酞菁氧钛及光电器件制备工艺研究

Study on preparation of high photosensitive TiOPc and photoconducting device

卞曙光 1余银霞 1陈建峰1

作者信息

  • 1. 纳米材料先进制备技术与应用科学教育部重点实验室,北京化工大学,北京,100029
  • 折叠

摘要

关键词

酞菁氧钛/载流子产生材料/光电导性/晶型/分散剂

分类

机械制造

引用本文复制引用

卞曙光,余银霞,陈建峰..高光敏性酞菁氧钛及光电器件制备工艺研究[J].高技术通讯,2006,16(10):1047-1050,4.

基金项目

863计划(2004AA302010)资助项目 (2004AA302010)

高技术通讯

OA北大核心CSCDCSTPCD

1002-0470

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