人工晶体学报2005,Vol.34Issue(1):107-111,5.
退火处理对ZnO薄膜发光特性的影响
Annealing Processing Effect on the Photoluminescence of ZnO Film
苏凤莲 1彭观良 2邹军 1宋词 1杭寅 1徐军 1周圣明1
作者信息
- 1. 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800
- 2. 安徽大学物理与材料科学学院,合肥,230039
- 折叠
摘要
关键词
ZnO薄膜/脉冲激光沉积/退火/蓝光发射分类
数理科学引用本文复制引用
苏凤莲,彭观良,邹军,宋词,杭寅,徐军,周圣明..退火处理对ZnO薄膜发光特性的影响[J].人工晶体学报,2005,34(1):107-111,5.