机械科学与技术2006，Vol.25Issue(9)：1082-1084,1116,4.
基于BP神经网络的SU-8光刻胶工艺参数优选研究
Study of Optimizing SU-8 Photoresist Process Parameters Based on a BP Neural Network
摘要
关键词
MEMS/SU-8/正交试验/BP神经网络/优化分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
曾永彬,朱荻,明平美,胡洋洋..基于BP神经网络的SU-8光刻胶工艺参数优选研究[J].机械科学与技术,2006,25(9):1082-1084,1116,4.基金项目
国家自然科学基金项目(50375073)资助 （50375073）
