核化学与放射化学2009，Vol.31Issue(2)：109-113,5.
UO2表面铝薄膜生长过程的AES原位研究
AES Study of Growth Process of Al Thin Films on Uranium Dioxide
周韦 1刘柯钊 2杨江荣 2肖红2
作者信息
- 1. 中国工程物理研究院,核物理与化学研究所,四川,绵阳,621900
- 2. 表面物理与化学国家重点实验室,四川,绵阳,621907
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摘要
关键词
UO2/铝薄膜/AES/界面反应/生长方式分类
化学化工引用本文复制引用
周韦,刘柯钊,杨江荣,肖红..UO2表面铝薄膜生长过程的AES原位研究[J].核化学与放射化学,2009,31(2):109-113,5.
