脉冲激光晶化非晶硅薄膜的有限差分模拟OA北大核心CSCDCSTPCD
Finite difference simulation of pulsed laser induced crvstallization 0f amorphous silicon thin film
根据热传导原理,建立了脉冲激光晶化非晶硅薄膜的理论模型.运用有限差分方法研究了不同激光波长、能量密度等因素对薄膜温度变化及相变过程的影响.计算了不同波长激光器对厚度500 nm非晶硅晶化的阈值能量密度.结果发现,准分子晶化的阈值能量密度最低,但是在同样的能量密度下,熔融深度却不及使用更长波长的激光器.计算并分析了升高衬底温度对结晶速度和晶粒尺寸的影响,模拟结果较好地验证了实验结论和规律.
袁志军;楼祺洪;周军;董景星;魏运荣;王之江
中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800
数理科学
激光晶化非晶硅薄膜多晶硅有限差分模拟
《强激光与粒子束》 2008 (7)
1100-1104,5
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