半导体学报2003，Vol.24Issue(10)：1103-1108,6.
刻蚀衍射光栅像差特性分析
Analysis of Aberration Characteristics for Etched Diffraction Grating
摘要
关键词
刻蚀衍射光栅(EDG)/波分复用/波像差/球差/彗差/串扰/耦合效率分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
宋军,梅维泉,文泓桥,何赛灵..刻蚀衍射光栅像差特性分析[J].半导体学报,2003,24(10):1103-1108,6.基金项目
浙江省科技计划资助项目(编号:001101027) （编号:001101027）
