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SiGe电荷注入晶体管的直流特性模型

舒斌 张鹤鸣 胡辉勇 宣荣喜 戴显英

物理学报2007,Vol.56Issue(2):1105-1109,5.
物理学报2007,Vol.56Issue(2):1105-1109,5.

SiGe电荷注入晶体管的直流特性模型

Mathematical model of DC characteristic of SiGe charge injection transistors

舒斌 1张鹤鸣 1胡辉勇 1宣荣喜 1戴显英1

作者信息

  • 1. 西安电子科技大学微电子学院,宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室,西安,710071
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摘要

关键词

SiGe/Si异质结/电荷注入晶体管/二维空穴气/隧道效应

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

舒斌,张鹤鸣,胡辉勇,宣荣喜,戴显英..SiGe电荷注入晶体管的直流特性模型[J].物理学报,2007,56(2):1105-1109,5.

基金项目

武器装备预研基金(批准号:51408061104DZ01)资助的课题. (批准号:51408061104DZ01)

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-3290

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