人工晶体学报2008，Vol.37Issue(5)：1107-1112,6.
化学抛光和退火对钛酸锶基片表面改性研究
Study on the Influence of CMP and Anneal to SrTiO3 Surface
陈光珠 1杭寅 1汪隽 2何晓明 1张连翰 1李志鸿 1华如江 1何明珠1
作者信息
- 1. 中国科学院上海光学与精密机械研究所,上海,201800
- 2. 成都理工大学化学化工学院,成都,610059
- 折叠
摘要
关键词
钛酸锶/超光滑表面/化学机械抛光/退火分类
数理科学引用本文复制引用
陈光珠,杭寅,汪隽,何晓明,张连翰,李志鸿,华如江,何明珠..化学抛光和退火对钛酸锶基片表面改性研究[J].人工晶体学报,2008,37(5):1107-1112,6.
