无机材料学报2007，Vol.22Issue(6)：1113-1116,4.
氧分压对直流磁控溅射制备ZnO:Ga透明导电薄膜特性的影响
Effects of Oxygen Partial Pressure on the Properties of Transparent Conductive ZnO:Ga Films Prepared by DC Reactive Magnetron Sputtering
摘要
关键词
ZnO:Ga/透明导电氧化物薄膜/磁控溅射/氧分压/光电特性分类
数理科学引用本文复制引用
马全宝,叶志镇,何海平,朱丽萍,张银珠,赵炳辉..氧分压对直流磁控溅射制备ZnO:Ga透明导电薄膜特性的影响[J].无机材料学报,2007,22(6):1113-1116,4.基金项目
国家科技部973项目(2006CB604906) （2006CB604906）
国家自然科学基金重点项目(60276044,60340460439) （60276044,60340460439）
浙江省自然科学基金(Y405126) （Y405126）
