人工晶体学报2006，Vol.35Issue(5)：1113-1117,5.
直流磁控反应溅射制备(002)择优取向AlN薄膜
Preparation of Preferentially Orientated AlN (002) Thin Film by DC Reactive Magnetron Sputtering
摘要
关键词
氮化铝薄膜/直流磁控溅射/择优取向分类
数理科学引用本文复制引用
王质武,刘文,杨清斗,卫静婷..直流磁控反应溅射制备(002)择优取向AlN薄膜[J].人工晶体学报,2006,35(5):1113-1117,5.基金项目
留学回国人员科研启动基金(教外司留2001-498) （教外司留2001-498）
