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响应表面法在工艺综合中的应用

鲁勇 张文俊 杨之廉

半导体学报2002,Vol.23Issue(10):1116-1120,5.
半导体学报2002,Vol.23Issue(10):1116-1120,5.

响应表面法在工艺综合中的应用

Using Response Surface Method for Process Synthesis

鲁勇 1张文俊 1杨之廉1

作者信息

  • 1. 清华大学微电子学研究所,北京,100084
  • 折叠

摘要

关键词

响应表面法/多分区响应表面法/工艺综合/MOSPAD/工艺窗口

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

鲁勇,张文俊,杨之廉..响应表面法在工艺综合中的应用[J].半导体学报,2002,23(10):1116-1120,5.

半导体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1674-4926

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