| 注册
首页|期刊导航|人工晶体学报|采用MOCVD法在p型Si衬底上生长Zn0薄膜

采用MOCVD法在p型Si衬底上生长Zn0薄膜

张源涛 崔勇国 张宝林 朱慧超 李万成 常遇春 杨树人 杜国同

人工晶体学报2005,Vol.34Issue(6):1137-1140,4.
人工晶体学报2005,Vol.34Issue(6):1137-1140,4.

采用MOCVD法在p型Si衬底上生长Zn0薄膜

ZnO Thin Film Grown on p-Si Substrates by MOCVD

张源涛 1崔勇国 1张宝林 1朱慧超 1李万成 1常遇春 1杨树人 2杜国同1

作者信息

  • 1. 吉林大学电子科学与工程学院,集成光电子国家重点实验室,长春,130012
  • 2. 大连理工大学物理系,大连,116024
  • 折叠

摘要

关键词

ZnO薄膜/Si衬底/PL谱/异质结

分类

数理科学

引用本文复制引用

张源涛,崔勇国,张宝林,朱慧超,李万成,常遇春,杨树人,杜国同..采用MOCVD法在p型Si衬底上生长Zn0薄膜[J].人工晶体学报,2005,34(6):1137-1140,4.

基金项目

国家自然科学基金(No.60307002) (No.60307002)

吉林大学青年教师基金和吉林大学创新基金资助项目 ()

人工晶体学报

OA北大核心CSCD

1000-985X

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文