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功率密度对VHF-PECVD制备μc-Si:H的影响

郭学军 卢景霄 文书堂 杨根 陈永生 张庆丰 谷锦华

半导体学报2008,Vol.29Issue(6):1160-1163,4.
半导体学报2008,Vol.29Issue(6):1160-1163,4.

功率密度对VHF-PECVD制备μc-Si:H的影响

Effect of Power Density on the Properties of μc-Si:H Deposited by VHF-PECVD

郭学军 1卢景霄 1文书堂 1杨根 1陈永生 1张庆丰 1谷锦华1

作者信息

  • 1. 郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室,郑州,450052
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摘要

关键词

μc-Si:H/VHF-PECVD/功率密度/孵化层/成核密度

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

郭学军,卢景霄,文书堂,杨根,陈永生,张庆丰,谷锦华..功率密度对VHF-PECVD制备μc-Si:H的影响[J].半导体学报,2008,29(6):1160-1163,4.

基金项目

国家重点基础研究发展计划资助项目(批准号 ()

2006CB202601) ()

半导体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1674-4926

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