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预沉积Ge对Si(111)衬底上SSMBE外延生长SiC薄膜的影响

刘忠良 任鹏 刘金锋 唐军 徐彭寿

物理化学学报2008,Vol.24Issue(7):1160-1164,5.
物理化学学报2008,Vol.24Issue(7):1160-1164,5.

预沉积Ge对Si(111)衬底上SSMBE外延生长SiC薄膜的影响

Effect of Predeposited Ge on the Growth of SiC Films on Si(111)by SSMBE

刘忠良 1任鹏 1刘金锋 1唐军 1徐彭寿1

作者信息

  • 1. 中国科学技术大学国家同步辐射实验室,合肥,230029
  • 折叠

摘要

关键词

/预沉积/碳化硅/硅衬底/固源分子束外延

分类

化学化工

引用本文复制引用

刘忠良,任鹏,刘金锋,唐军,徐彭寿..预沉积Ge对Si(111)衬底上SSMBE外延生长SiC薄膜的影响[J].物理化学学报,2008,24(7):1160-1164,5.

基金项目

国家自然科学基金(50572100)资助项目 (50572100)

物理化学学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-6818

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