纳米硅薄膜的Raman光谱OA北大核心CSCDCSTPCD
Raman Spectra of Nanocrystalline Silicon Films
通过等离子增强化学气相沉积法,制备了本征和掺磷的氢化纳米硅薄膜(nc-Si:H),研究了晶粒尺寸和掺杂浓度对纳米硅薄膜喇曼谱的影响.结果表明晶粒变小和掺杂浓度增加都使纳米晶粒的TO模峰位逐渐偏离声子限制模型的计算值.X射线衍射和高分辨电镜像的结果表明晶粒变小导致硅晶粒应力增加,而掺杂使晶粒内部杂质和缺陷增多,这些因素破坏了晶粒内晶格的平移对称性,进一步减小声子的平均自由程,导致实验值偏离理论计算值.晶格平移对称性的破缺还体现在,随晶粒尺寸减小或掺…查看全部>>
徐刚毅;王天民;李国华;王金良;何宇亮;马智训;郑国
兰州大学材料科学系,兰州,730000兰州大学材料科学系,兰州,730000北京航空航天大学材料物理与化学研究中心,北京,100083中国科学院半导体研究所超晶格与微结构国家重点实验室,北京,100083北京航空航天大学材料物理与化学研究中心,北京,100083北京航空航天大学材料物理与化学研究中心,北京,100083中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室,上海,200083
物理学
纳米硅薄膜喇曼谱声子限制模型
《半导体学报》 2000 (12)
纳米镶嵌与离子注入对TiO2薄膜结构与性能的影响及其机制
1170-1176,7
国家自然科学基金资助项目(59982002)[Project Supported by National Natural Science Foundation of China Under Grant No.59982002].
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