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痕量铜在8-羟基喹啉碳糊化学修饰电极上催化溶出伏安法的研究

乔文建

高等学校化学学报Issue(9)：1175,1.
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高等学校化学学报Issue(9)：1175,1.

痕量铜在8-羟基喹啉碳糊化学修饰电极上催化溶出伏安法的研究

乔文建1

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乔文建..痕量铜在8-羟基喹啉碳糊化学修饰电极上催化溶出伏安法的研究[J].高等学校化学学报,1991,(9):1175,1.

高等学校化学学报

OACSCD

0251-0790

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