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射频磁控溅射制备纳米TiO2薄膜的光电化学行为

沈杰 沃松涛 崔晓莉 蔡臻炜 杨锡良 章壮健

物理化学学报2004,Vol.20Issue(10):1191-1195,5.
物理化学学报2004,Vol.20Issue(10):1191-1195,5.

射频磁控溅射制备纳米TiO2薄膜的光电化学行为

Photoelectrochemical Characteristics of Nano-Titanium Dioxide Thin Films Prepared by RF Magnetron Sputtering

沈杰 1沃松涛 1崔晓莉 1蔡臻炜 1杨锡良 1章壮健1

作者信息

  • 1. 复旦大学材料科学系,上海,200433
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摘要

关键词

射频磁控溅射/二氧化钛薄膜/循环伏安/亲水性/光催化

分类

数理科学

引用本文复制引用

沈杰,沃松涛,崔晓莉,蔡臻炜,杨锡良,章壮健..射频磁控溅射制备纳米TiO2薄膜的光电化学行为[J].物理化学学报,2004,20(10):1191-1195,5.

基金项目

国家自然科学基金(20073011,20273018)及上海市分子催化和功能材料重点实验室资助项目 (20073011,20273018)

物理化学学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-6818

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