中国电机工程学报2006，Vol.26Issue(z1)：119-124,6.
矩形平面直流磁控溅射装置端部磁场分析
Analysis of the Magnetic Field in the End Region of the Rectangular Planar DC Magnetron Sputtering Apparatus
邱清泉 1励庆孚 1YU Jiao 2FINELY Jim2
作者信息
- 1. 西安交通大学电气工程学院,陕西省,西安市,710049
- 2. PPG Glass R&D Center,Pittsburgh,Pennsylvania 15238,USA
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摘要
关键词
磁控溅射/等离子体/永磁/磁场/设计/改进分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
邱清泉,励庆孚,YU Jiao,FINELY Jim..矩形平面直流磁控溅射装置端部磁场分析[J].中国电机工程学报,2006,26(z1):119-124,6.
