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偏压磁控溅射法在水冷柔性衬底上制备ITO透明导电膜
偏压磁控溅射法在水冷柔性衬底上制备ITO透明导电膜
杨志伟
韩圣浩
杨田林
物理学报
2000，Vol.49
Issue(6)：1196,1.
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物理学报
2000，Vol.49
Issue(6)
：1196,1.
偏压磁控溅射法在水冷柔性衬底上制备ITO透明导电膜
杨志伟
1
韩圣浩
2
杨田林
3
作者信息
1.
山东大学光电材料与器件研究所
2.
山东师范大学物理系
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摘要
关键词
偏压磁控溅射法
/
水冷柔性衬底
/
ITO透明导电膜
分类
数理科学
引用本文
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杨志伟,韩圣浩,杨田林..偏压磁控溅射法在水冷柔性衬底上制备ITO透明导电膜[J].物理学报,2000,49(6):1196,1.
物理学报
OA
北大核心
CSCD
CSTPCD
SCI
ISSN：
1000-3290
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