无机材料学报2006，Vol.21Issue(5)：1217-1222,6.
原子层淀积Al2O3薄膜的热稳定性研究
Thermal Stability of Atomic Layer Deposition Al2O3 Thin Films
摘要
关键词
Al2O3薄膜/原子层淀积(ALD)/X射线光电子能谱(XPS)分类
数理科学引用本文复制引用
卢红亮,徐敏,丁士进,任杰,张卫..原子层淀积Al2O3薄膜的热稳定性研究[J].无机材料学报,2006,21(5):1217-1222,6.基金项目
国家自然科学基金(60176013) （60176013）
上海市科委重点项目(04JC04013) （04JC04013）
