硅酸盐学报2004，Vol.32Issue(10)：1241-1245,5.
Al2O3掺量及氧气分压对直流磁控溅射法制备铝掺杂氧化锌薄膜性能的影响
EFFECTS OF Al2O3 DOSAGES AND OXYGEN PARTIAL PRESSURE ON PROPERTIES OF ALUMINUM-DOPED ZINC OXIDE FILMS PREPARED BY DIRECT CURRENT MAGNETRON SPUTTERING
余俊 1赵青南 1赵修建1
作者信息
- 1. 武汉理工大学,硅酸盐材料工程教育部重点实验室,武汉,430070
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摘要
关键词
铝掺杂氧化锌薄膜/电导率/直流磁控溅射分类
化学化工引用本文复制引用
余俊,赵青南,赵修建..Al2O3掺量及氧气分压对直流磁控溅射法制备铝掺杂氧化锌薄膜性能的影响[J].硅酸盐学报,2004,32(10):1241-1245,5.
