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N型槽栅金属-氧化物-半导体场效应晶体管抗热载流子效应的研究

任红霞 郝跃 许冬岗

物理学报2000,Vol.49Issue(7):1241-1248,8.
物理学报2000,Vol.49Issue(7):1241-1248,8.

N型槽栅金属-氧化物-半导体场效应晶体管抗热载流子效应的研究

Study on Hot-Carrier-Effect for Grooved-Gate N-Channel Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect-Transistor

任红霞 1郝跃 1许冬岗1

作者信息

  • 1. 西安电子科技大学微电子研究所,西安,710071
  • 折叠

摘要

关键词

槽栅MOSFET/热载流子效应/界面态/特性退化

分类

数理科学

引用本文复制引用

任红霞,郝跃,许冬岗..N型槽栅金属-氧化物-半导体场效应晶体管抗热载流子效应的研究[J].物理学报,2000,49(7):1241-1248,8.

基金项目

高等学校博士学科点专项基金(批准号:8070110)资助项目. (批准号:8070110)

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-3290

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