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低温缓冲层对氧化锌薄膜质量的影响

石增良 刘大力 闫小龙 高忠民 徐经纬 白石英

发光学报2008，Vol.29Issue(1)：124-128,5.
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发光学报2008，Vol.29Issue(1)：124-128,5.

低温缓冲层对氧化锌薄膜质量的影响

Effects of the Low-temperature Buffer Layer on the Properties of ZnO Thin Films

石增良 1刘大力 1闫小龙 1高忠民 1徐经纬 2白石英2

作者信息

  • 1. 集成光电子学国家重点实验室,吉林大学电子科学与工程学院,吉林,长春,130012
  • 2. 中国科学院长春应用化学研究所,国家电化学和光谱研究分析中心,吉林,长春,130022
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摘要

关键词

氧化锌薄膜/MOCVD/低温缓冲层/XRD/SEM

分类

数理科学

引用本文复制引用

石增良,刘大力,闫小龙,高忠民,徐经纬,白石英..低温缓冲层对氧化锌薄膜质量的影响[J].发光学报,2008,29(1):124-128,5.

基金项目

国家"863"计划资助项目(2001AA311130) （2001AA311130）

发光学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-7032

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