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聚焦脉冲激光作用下 Ge2Sb2Te5薄膜晶化过程及机理

魏劲松 阮昊 干福熹

无机材料学报2002,Vol.17Issue(6):1245-1252,8.
无机材料学报2002,Vol.17Issue(6):1245-1252,8.

聚焦脉冲激光作用下 Ge2Sb2Te5薄膜晶化过程及机理

Crystallization Mechanism and Course of the Ge2Sb2Te5 Thin Films under Focused Pulse Laser

魏劲松 1阮昊 1干福熹1

作者信息

  • 1. 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800
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摘要

关键词

Ge2Sb2Te5/薄膜/脉冲激光/晶化/过饱和度

分类

数理科学

引用本文复制引用

魏劲松,阮昊,干福熹..聚焦脉冲激光作用下 Ge2Sb2Te5薄膜晶化过程及机理[J].无机材料学报,2002,17(6):1245-1252,8.

基金项目

国家自然科学基金(59832060) (59832060)

无机材料学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-324X

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