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SiC隐埋沟道MOS结构夹断模式下的C-V特性畸变

郜锦侠 张义门 张玉明

半导体学报2006,Vol.27Issue(7):1259-1263,5.
半导体学报2006,Vol.27Issue(7):1259-1263,5.

SiC隐埋沟道MOS结构夹断模式下的C-V特性畸变

C-V Characteristic Distortion in the Pinch-Off Mode of a Buried Channel MOS Structure in 4H-SiC

郜锦侠 1张义门 1张玉明1

作者信息

  • 1. 西安电子科技大学微电子学院,宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室,西安,710071
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摘要

关键词

埋沟MOS结构/夹断模式/C-V特性/SiC/畸变

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

郜锦侠,张义门,张玉明..SiC隐埋沟道MOS结构夹断模式下的C-V特性畸变[J].半导体学报,2006,27(7):1259-1263,5.

基金项目

国家重点基础研究发展规划资助项目(批准号:A50103250091) (批准号:A50103250091)

半导体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1674-4926

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