| 注册
首页|期刊导航|光学精密工程|利用图像处理技术评价硅片表面清洗率

利用图像处理技术评价硅片表面清洗率

王续跃 许卫星 司马媛 吴东江 康仁科 郭东明

光学精密工程2007,Vol.15Issue(8):1263-1268,6.
光学精密工程2007,Vol.15Issue(8):1263-1268,6.

利用图像处理技术评价硅片表面清洗率

Evaluation of efficiency for silicon wafer cleaning by image processing

王续跃 1许卫星 1司马媛 1吴东江 1康仁科 1郭东明1

作者信息

  • 1. 大连理工大学,精密与特种加工教育部重点实验室,辽宁,大连,116024
  • 折叠

摘要

关键词

激光清洗/硅片/清洗率/图像处理

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

王续跃,许卫星,司马媛,吴东江,康仁科,郭东明..利用图像处理技术评价硅片表面清洗率[J].光学精密工程,2007,15(8):1263-1268,6.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(No.52090101) (No.52090101)

国家"863"高技术计划资助项目(No.2002AA421230) (No.2002AA421230)

光学精密工程

OA北大核心CSCDCSTPCD

1004-924X

访问量3
|
下载量0
段落导航相关论文